플라즈마 적용분야

06.

Printing

프린팅 산업

  • - OLED RGB /Quantum Dot Display 잉크젯 공정을 위한 AP 플라즈마 적용
  • - 나노 임프린팅 전처리/Primer 제거 공정을 위한 AP 플라즈마 적용
프린팅 산업
AP Plasma System
AP Plasma System
Large AP Plasma Module (Gen 6~11)
Large AP Plasma Module (Gen 6~11)
AP Plasma & InkjetPrinting

AP 플라즈마 전극

  1. 1. OLED RGB 패턴 /Quantum Dot Display 잉크젯 프린팅 전 Glass 선택적 표면처리 적용
  2. 2. 나노 임프린팅 전처리 공정/Primer 제거 공정을 위한 AP 플라즈마 적용
  3. 3. 대형 (6~10G) 샘플 까지 안정적인 적용 가능 (처리속도: 6-8m/min)
  • - Patterning 공정의 Descum/Etching 용 진공 플라즈마 적용
진공 플라즈마 시스템 (VPS 750E)
진공 플라즈마 시스템 (VPS 750E)
SEM Picture (Test Sample)For SiO2 Etching for PR on Glass(Nano Pattern)
SEM Picture (Test Sample)
For SiO2 Etching for PR on Glass
(Nano Pattern)

AP 플라즈마 시스템

  1. 1. PSM 진공 플라즈마 시스템은 고유한 진공 및 가스 흐름 기술 보유
        - 최고의 Resin 제거 시스템 및 Etching 장비 제공
  2. 2. 기판 표면위에 Resin을 제거 하는 목적의 Descum 공정에 적용
  3. 3. 나노 임프린팅 패턴 형성 용 글라스 에칭에 적용
  • - 그라비아 프린팅/스크린 프린팅의 프린팅 공정개선을 위한 AP 플라즈마 (M/DRP 전극) 적용
High Density AP Module (DRP)
High Density AP Module (DRP)
DRP 400
DRP 400

DRP

  1. 1. 매우 높은 세정효과를 보임 (기존 AP 대비해서 ~ 5 배 높은 세정 효과를 보임)
  2. 2. 전극과 샘플 간격이 높음 (~12 mm Max.)
  3. 3. 전극을 직렬로 연결하여 대형 샘플 Panel 에도 적용이 가능함

Specification

specification
300D 400D 500D 800D
A (mm) 500 610 830 995
B (mm) 431 541 761 926
C (mm) 214 214 214 214
D (mm) 202 202 202 202
E (mm) 318 320 312 312
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APM 전극
APM 전극

Specification

Specification

Unit : mm

* D1 x D2 – Docking point (M6 bolt x 4ea)
200M 300M 300M
A 282.4 382.4 482.4
B 95 95 95
C 130 130 130
D1* 384.4 448.4 548.4
D2* 110 110 110
E 318.4 418.4 518.4
Plasma
Area		 210 310 410
Weight 5Kg 6Kg 7Kg
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